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硅台垂直双栅器件结构和特性研究
中文名称: 硅台垂直双栅器件结构和特性研究
论文编号: 2630510收藏本论文】【我的收藏
英文名称: Technology and characteristics research of silicon mesa vertical double gate MOSFET
学位类型: 博士毕业论文
作者: 涉及隐私,隐去***  作者本人请参看权力声明>>
导师: 涉及隐私,隐去***
毕业学校: 涉及隐私,隐去***
专业: 微电子学与固体电子学
毕业年份: 涉及隐私,隐去***
关键字: 垂直
全文提供: 本论文应版权问题不能提供全文。但有其他80万收费硕士博士论文可提供下载 联系购买>>收藏本论文】【我的收藏
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