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脉冲偏压电弧离子镀低温沉积研究
中文名称：
脉冲偏压电弧离子镀低温沉积研究
全文提供：
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论文编号：
2438830
英文名称：
Study on Low Temperature Deposition of Thin Films by Pulsed Bias Arc Ion Plating
学位类型：
博士毕业论文
作者：
涉及隐私，隐去***
作者本人请参看权力声明>>
导师：
涉及隐私，隐去***
毕业学校：
涉及隐私，隐去***
专业：
材料物理与化学
毕业年份：
涉及隐私，隐去***
关键字：
离子镀
低温沉积
脉冲偏压
电弧离子镀
低温
基体温度
TiN薄膜
简介和目录：
点击此处 免费索取本论文简介和目录>>
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